Intel İşleme ve Paketleme Yeniliklerinde Gaza Basıyor

Intel Corporation, firmanın bugüne dek sağlamış olduğu en detaylı işleme ve paketleme teknolojisi planlarından birini açıkladı. Şirket, 2025 ve sonrasında ürünlere güç verecek bir takım temel yeniliği sergiledi. Intel yetkilileri, On yıldan uzun bir süredir ilk yeni transistör mimarisi olan RibbonFET’i ve endüstride bir ilk olan yeni bir backside güç dağıtım yöntemi olan PowerVia’yı duyurmanın yanı sıra, Yüksek Sayısal Açıklık (Yüksek NA) EUV olarak adlandırılan yeni nesil aşırı ultraviyole litografinin (EUV) planlı olarak süratli bir halde benimsendiğinin altını çizdiler. Şirket, sektördeki ilk Yüksek NA EUV üretim aracını elde edecek şekilde konumlandı.

Intel CEO’su Pat Gelsinger, küresel “Intel Accelerated” web yayını esnasında yapmış olduğu açıklamada; “Gelişmiş paketlemede Intel’in emsalsiz liderliğini temel alarak, 2025 yılına kadar işleme performansı liderliği için doğru yolda olduğumuzdan güvenilir olmak için inovasyon planlarımızı hızlandırıyoruz.” dedi. Transistörden sistem seviyesine kadar teknolojik ilerlemeler sağlamak için benzersiz inovasyon hattından yararlandıklarını belirten Gelsinger, “Periyodik tabloyu tüketene kadar Moore Yasası’nın peşindeyiz ve silikonun büyüsünü kullanarak durmadan yenilikler yapacağız.” dedi.

Sanayi, geleneksel nanometre tabanlı işlem düğümü isimlendirmesinin 1997’de gerçek gate-length metriğine uymayı bıraktığını kabul etti. Bugün Intel, müşterilere sektör genelindeki süreç düğümlerine ilişkin daha doğru bir görünüm sağlamak için net ve tutarlı bir çerçeve oluşturarak yeni bir adlandırma yapısı tanıttı. Bu netlik, Intel Foundry Services’ın kullanıma sunulmasıyla her zamankinden daha mühim hale geldi.Intel CEO’su Pat Gelsinger Gelsinger “Bugün açıklanan yenilikler yalnızca Intel’in ürün yol haritasını mümkün kılmakla kalmayacak; hem de dökümhane müşterilerimiz için de eleştiri öneme haiz olacak. “IFS’ye olan ilgi oldukça kuvvetli ve bugün ilk iki büyük müşterimizi duyurduğumuz için fazlaca mutluyum. IFS göklere uzanıyor” dedi.

Intel teknoloji uzmanları, yeni düğüm adları ve her bir düğümü etkinleştiren yeniliklerle beraber aşağıdaki yol haritasını açıkladı:

• Intel 7, FinFET transistör optimizasyonlarına dayalı olarak Intel 10nm SuperFin’e kıyasla watt başına ortalama %10 ila %15 performans artışı sağlar. Intel 7; 2021’de alan kişi için Alder Lake ve 2022’nin ilk çeyreğinde üretime geçmesi beklenen veri merkezi için Sapphire Rapids şeklinde ürünlerde yer alacak.
• Intel 4, ultra kısa dalga boylu ışık kullanarak inanılmaz derecede ufak özellikler işlemek için EUV litografisini tamamiyle benimsiyor. Alan iyileştirmelerinin yanı sıra watt başına ortalama %20’lik bir performans artışı sunan Intel 4, alan kişi için Meteor Lake ve veri merkezi için Granite Rapids dahil olmak suretiyle 2023’te sevkiyatı yapılacak ürünler için 2022’nin ikinci yarısında üretime hazır olacak.
• Intel 3, ek alan iyileştirmelerinin yanı sıra Intel 4’e gore watt başına ortalama %18’lik bir performans artışı sağlamak için FinFET optimizasyonlarından ve artırılmış EUV’den yararlanır. Intel 3, 2023’ün ikinci yarısında ürün üretmeye başlamaya hazır olacak.

• Intel 20A, iki çığır açan teknoloji olan RibbonFET ve PowerVia ile angstrom çağını başlatıyor. Intel’in fazlaca yönlü bir transistör uygulaması olan RibbonFET, 2011’de FinFET’e öncülük etmesinden bu yana firmanın ilk yeni transistör mimarisi olacak. Bu teknoloji daha süratli transistör anahtarlama hızları sunarken, daha ufak bir alanda birden fazlaca kanatla aynı sürücü akımını elde ediyor. PowerVia, Intel’in endüstride bir ilk olan backside güç dağıtımı uygulaması ve yonga plakasının ön tarafında güç yönlendirme ihtiyacını ortadan kaldırarak sinyal iletimini optimize ediyor. Intel 20A’nın 2024’te artış yaşaması umut ediliyor.
• 2025 ve İlerisi: Intel 20A’nın ötesinde, Intel 18A, transistör performansında başka bir büyük sıçrama sağlayacak RibbonFET iyileştirmeleriyle 2025’in başları için halihazırda geliştirilmekte. Intel ek olarak yeni nesil High NA EUV’yi tanımlamak, oluşturmak ve dağıtmak için çalışıyor ve sektördeki ilk üretim aracını almayı bekliyor. Intel, mevcut EUV neslinin ötesinde bu sektördeki atılımın başarısını garantilemek için ASML ile yakın bir ortaklık içinde.

Intel Teknoloji Geliştirme Kıdemli Başkan Yardımcısı ve Genel Müdürü Dr. Ann Kelleher; “Intel, endüstriyi sıçramalar ve sınırlarla ilerletmeye yönelik temel süreç yenilikleri mevzusunda uzun bir geçmişe haiz” diyor ve ekliyor, “90 nm’de gerilmiş silikona, 45 nm’de yüksek k-metal gate’lere ve 22 nm’de FinFET’e geçişi sağladık. Intel 20A, çığır açan iki yenilik olan RibbonFET ve PowerVia ile işleme teknolojisinde bambaşka bir dönüm noktası olacak.”

Intel’in yeni IDM 2.0 stratejisiyle, Moore Yasası’nın faydalarını gerçekleştirmek için paketleme daha da mühim hale geliyor. Ek olarak firmanın sanayi lideri gelişmiş paketleme yol haritasına ilişkin aşağıdaki detayları sağlıyor:

• EMIB, 2017’den beri ürün sevkiyatı devam eden ilk 2.5D gömülü köprü çözümüyle sektöre öncülük etmeye devam ediyor. Sapphire Rapids, EMIB (gömülü fazlaca kalıplı ara bağlantı köprüsü) ile toplu olarak gönderilen ilk Xeon veri merkezi ürünü olacak. Bununla birlikte sektördeki ilk çift retikül boyutlu aygıt olacak ve monolitik bir tasarımla neredeyse aynı performansı sunacak. Sapphire Rapids’in ötesinde, yeni nesil EMIB, 55 mikronluk bir çarpma aralığından 45 mikrona geçecek.
• Foveros, türünün ilk örneği bir 3D yığınlama çözümü sağlamak için wafer-level düzeyinde paketleme kabiliyetlerinden yararlanır. Meteor Lake, bir alan kişi ürününde Foveros’un ikinci nesil uygulaması olacak ve 36 mikronluk bir çarpma aralığına, birden fazla teknoloji düğümünü kapsayan karolara ve 5 ila 125W içinde bir termal tasarım güç aralığına haiz olacak.
• Foveros Omni, kalıptan kalıba bağlantı ve modüler tasarımlar için performans 3D yığınlama teknolojisi ile sınırsız esneklik sağlayarak yeni nesil Foveros teknolojisini kullanıyor. Foveros Omni, birden fazla üst kalıp karosunu, karışık yapınak düğümlerinde birden fazla taban karosu ile karışmasını sağlayarak kalıp ayrıştırmasına izin veriyor ve 2023’te geniş hacimli üretime hazır olması umut ediliyor.
• Foveros Direct, düşük dirençli ara bağlantılar için direkt bakırdan bakıra bağlamaya geçer ve wafer’ın bittiği yer ile paketin başladığı yer arasındaki sınırı bulanıklaştırır. Foveros Direct, 3D yığınlama için ara bağlantı yoğunluğunda bir büyüklük artışı elde eden 10 mikron altı çarpma aralıklarını mümkün kılarak, daha ilkin ulaşılamayan işlevsel kalıp bölümleme için yeni konseptler sunar. Foveros Direct, Foveros Omni’nin tamamlayıcısıdır ve 2023’te hazır olması umut ediliyor.

Bugün tartışılan atılımlar ilk olarak Intel’in Oregon ve Arizona’daki tesislerinde geliştirildi ve firmanın ABD’de hem araştırma, hem geliştirme hem de üretimde tek öncü oyuncu rolünü güçlendirdi. Ek olarak, yenilikler hem ABD hem de Avrupa’daki bir ortaklar ekosistemi ile yakın iş birliğine dayanıyor. Köklü ortaklıklar, laboratuvardan yüksek hacimli üretime kadar temel yenilikleri uygulamanın anahtarı.  Intel, tedarik zincirlerini güçlendirmek, ekonomik ve ulusal güvenliği sağlamak için hükümetlerle ortaklık kurmaya emin.

Şirket, Intel InnavotiON etkinliği hakkında daha çok ayrıntıyı doğrulayarak web yayınını sonlandırdı. Intel InnovatiON, 27-28 Ekim 2021 tarihinde San Francisco’dan çevrimiçi olarak düzenlenecek. Daha çok data Intel ON internet sayfasında mevcut. 

Intel’in işleme yol haritası ve düğüm adlandırma gelişimleri hakkında daha çok data için işleme data sayfasını ziyaret edebilirsiniz. Bugünün web yayınının tekrarını seyretmek için Intel Newsroom yada Intel’in Yatırımcı İlişkileri Internet sayfasını ziyaret edebilirsiniz.